評価設備
マイクロ天秤
METTLER TOLEDO AB104
Class10000ルーム
①
薬品の重量を計測します。
デジタル顕微鏡
HIROX KH-1300
Class100イエロールーム
②
倍率をデジタルで設定できるため、サイズの測定が容易です。映像の取り込みも簡単です。
ノマルスキー型微分干渉顕微鏡
OLYMPUS BX60M
Class100イエロールーム
③
干渉フィルターを使用すると細かい凸凹も観察できます。
表面粗さ計
BRUKER Dektak150
Class100イエロールーム
④
機械的に段差や粗さを測定します。分解能は0.1nmです。針先のサイズは12.５μmφです。
リソグラフィー設備
フォトレジストを塗布・露光・現像し、１μmまでマスクのパターンをレジストに転写するフォトリソグラフィーと電子線によるレジスト上へのパターンの直接描画、現像する電子線リソグラフィーが可能です。
高分解能マスクアライナー
SUSS MicroTec MA6/BA6
Class100イエロールーム
⑤
0.5μmまでのマスク合わせが可能です。
マスクアライナー
ユニオン光学 PEM-800
Class100イエロールーム
⑥
1μmまでのリソグラフィーが可能です。
スピンナー
共和理研 K-359SD-2
Class100イエロールーム
⑦
試料に均一にレジストを塗布します。
電子線リソグラフィー装置
日本電子 JSM-7100F
Class100イエロールーム
⑧
電子線によるレジストへの直接描画による数十nmまでのリソグラフィーが可能です。
オーブン
ヤマト科学 WS-B4/WS-BR
Class100イエロールーム
⑨
レジストを熱で固めます。
成膜設備
半導体・金属・酸化膜を堆積させます。
蒸着装置
サンユー電子 SVC-700TMSG/SVC-7PS100
Class10000ルーム
⑩
真空チャンバー内で金属（金、アルミニウムなど）を抵抗加熱で蒸発させ、基板に堆積させます。
電子ビーム蒸着装置
CANON ANELVA 980-7104
Class10000ルーム
⑪
真空チャンバー内で金属（金、アルミ、ニッケル、チタンなど）や酸化物を電子線により加熱し、基板に堆積させます。
スパッタリング装置
ANELVA L-210S-FH
Class10000ルーム
⑫
金属、酸化物、窒化物などターゲットさえ用意できれば基板にそのターゲット素材の薄膜を堆積できます。一般にシリコン酸化膜、窒化膜、ITOやZnOなどの透明電極薄膜が堆積できます。
酸化・拡散炉
日製エレクトロニクス
Class10000ルーム
⑬
最高温度1100℃用(主にシリコンの熱酸化膜の作製用)と最高温度1500℃用の２種類の炉があります。窒素、酸素、水蒸気雰囲気中で加熱することができます。
エッチング設備
反応性イオンエッチング装置（F系）
ULVAC NE-500
Class10000ルーム
⑭
ドライエッチング装置で、極微細加工としてアスペクト比の大きなエッチング（材料の部分的除去）が可能です。主な対象はシリコン酸化膜などシリコン系材料です。
ウェットステーション
ヤマト科学 WS-A
Class10000ルーム
⑮
化学薬品などを使用するドラフトで、純度が非常に高い超純水作製装置が取り付けられており、ウェットエッチングに対応しています。
オゾンアッシャー
サムコ UV-1
Class10000ルーム
⑯
酸化力の強いオゾンを発生させてレジストを除去します。
反応性イオンエッチング装置（CI系）
サムコ RIE-101iPHD
Class10000ルーム
⑰
化学薬品などを使用するドラフトで、純度が非常に高い超純水作製装置が取り付けられており、ウェットエッチングに対応しています。
コンパクトエッチャー
サムコ FA-1
Class10000ルーム
⑱
酸素、CF4によるプラズマプロセスが可能です。レジストを剥離したり、表面状態を変質させることができます。
その他プロセス設備
ワイヤーボンダー
WEST BOND 7400A
Class10000ルーム
⑲
Al線やAu線などをデバイスの電極に取り付けます。
RTA炉
ULVAC MILA-3000
Class10000ルーム
⑳
ランプアニール炉です。急速な加熱や短時間の過熱に適しています。
